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等離子去膠機(jī)通過(guò)等離子體技術(shù)實(shí)現(xiàn)材料表面光刻膠或有機(jī)污染物的去除，其核心功能依賴(lài)于多個(gè)精密部件的協(xié)同工作。真空腔室是其核心區(qū)域，為等離子體生成與材料處理提供密閉...
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等離子清洗機(jī)是一種利用氣體等離子體進(jìn)行表面處理的設(shè)備，它通過(guò)能量轉(zhuǎn)換技術(shù)將氣體轉(zhuǎn)化為活性高的等離子體，這些等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，實(shí)現(xiàn)超清洗、活化、刻蝕等處理效果。作為干法處理設(shè)備，等離子清洗機(jī)全程無(wú)需化學(xué)溶劑，在干燥環(huán)境下完成處理，樣品處理后可直接進(jìn)入下一道工序。01國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)的技術(shù)特色國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)在技術(shù)上實(shí)現(xiàn)了顯著突破，采用高頻電源驅(qū)動(dòng)和智能控制系統(tǒng)，大大提升了清洗效率與穩(wěn)定性。設(shè)備利用氣體作為處理介質(zhì)，有效避免了樣品二次污染，其清洗能力可達(dá)分子級(jí)，能夠...
[查看詳情]應(yīng)用案例
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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